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半導體專用氫氣發生器的正確使用步驟

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  在半導體制造領域,氫氣作為一種關鍵的工藝氣體,廣泛應用于外延生長、刻蝕、退火等諸多重要環節。半導體專用氫氣發生器能夠現場產生高純度氫氣,為半導體生產提供穩定氣源,其正確使用對于保障生產質量與效率、確保安全生產意義重大。以下為您詳細介紹其使用步驟。
 
  一、使用前的準備工作
 
  (一)設備檢查
 
  1.外觀檢查:仔細查看氫氣發生器的外殼有無破損、變形,各部件連接是否牢固。確認儀器的 “O?” 口通暢無阻,加液口蓋子已取下,方便后續注液操作。
 
  2.配件核對:對照裝箱單,逐一核對隨機配件是否齊全,如電源線、管路、密封件、說明書、保修卡等,確保無遺漏。
 
  3.內部檢查:若設備允許,可打開部分外殼,檢查內部電路布線是否規整,有無松動、短路跡象;查看電解槽、氣路管道等關鍵部件是否有損壞、腐蝕等情況。
 
  (二)環境準備
 
  1.通風良好:選擇通風系統完善的場所放置發生器,確保氫氣泄漏時能及時排出,避免積聚形成爆炸危險。
 
  2.遠離熱源與火源:發生器應與熱源(如加熱爐、蒸汽管道等)保持安全距離,周圍嚴禁有明火、火花產生,如焊接作業、吸煙等行為。
 
  3.穩定平整的安裝面:將發生器放置在堅固、水平的工作臺面上,防止設備運行時因震動發生位移、傾倒。
 
  4.適宜的溫濕度:環境溫度控制在 0℃ - 40℃之間,相對濕度不超過 85%。溫度過高可能影響設備散熱與部件性能,濕度過大則易引發電氣故障、腐蝕設備。
 
  (三)電解液準備(若為電解水制氫型發生器)
 
  1.試劑選擇:選用化學純級別的氫氧化鉀(KOH)或氫氧化鈉(NaOH)作為電解質,確保其純度與質量,雜質可能影響電解效率與氫氣純度。
 
  2.溶液配制:按照設備說明書要求的濃度進行配制,一般常用濃度為 10% 左右。例如,將 160g 氫氧化鉀溶解于 1600ml 蒸餾水中,用干凈的玻璃棒攪拌均勻,待其充分溶解、冷卻至室溫備用。
 
  3.水質要求:必須使用蒸餾水或去離子水配制電解液,長期使用含有雜質的普通水會對發生器造成不可逆的損害,影響氫氣質量與設備壽命。
 
  二、開機操作流程
 
  1.連接電源:將符合設備電壓要求的電源線插頭插入發生器電源接口,確保插頭插緊,無松動接觸不良現象。同時,檢查設備接地是否可靠,接地電阻應小于 [X] 歐姆,良好的接地能有效保障設備與人身安全。
 
  2.密封輸出口與自檢:將儀器輸出口的密封帽旋緊,接通電源開關。此時,觀察儀器流量顯示,若顯示為 300ml/min 左右(不同型號可能略有差異),表明儀器正在進行自檢程序。在自檢過程中,儀器會自動檢測內部電路、氣路、壓力傳感器等部件的工作狀態。
 
  3.自檢異常處理:如果流量顯示數字大于正常自檢值,需立即停機,用皂液涂抹在輸出口及各連接部位,檢查是否有氣泡產生,以判斷是否存在漏氣情況。若發現漏氣,應緊固相應的密封螺帽或檢查密封件是否損壞,必要時進行更換,直至自檢合格。
 
  4.連接用氣設備:自檢通過后,關閉電源,取下輸出口密封帽,使用配套的管路將發生器與半導體工藝用氣設備(或氣體凈化裝置,若有)連接起來。確保管路連接緊密,無彎折、扭曲,使用卡箍或密封接頭固定好,防止氣體泄漏。
 
  5.再次開機運行:重新打開電源開關,發生器進入工作狀態,此時可觀察到壓力逐漸上升,流量顯示也會根據實際產氫情況發生變化。等待設備運行穩定,壓力與流量達到設定值后,即可為半導體工藝提供氫氣。
 
  三、運行中的監控與維護
 
  1.流量與壓力監測:密切關注發生器的流量與壓力顯示儀表,確保流量與用氣設備的實際用氣量相匹配。若流量顯示超出用氣設備實際用量較多,可能存在氣路泄漏,需及時停機,按照前文所述的檢漏方法排查處理。同時,壓力應穩定在設備設定的工作壓力范圍內(如 0.4MPa 左右,依型號而定),壓力異常波動可能預示著設備故障,如壓力傳感器故障、氣路堵塞等,需及時檢修。
 
  2.電解液液位檢查:定期查看電解液液位,當液位接近低位刻度線時,應及時補充二次蒸餾水。添加時注意液位不要超過上限刻度線,避免溶液溢出腐蝕設備。加水頻率與氫氣使用量、環境溫度有關,使用頻繁、溫度較高時,補水間隔會相應縮短。
 
  3.硅膠干燥劑檢查與更換:氫氣發生器通常配備有硅膠干燥劑用于干燥氫氣,若發現過濾器中的硅膠由藍色變為粉紅色,說明硅膠已吸水潮解,當變色硅膠量達到 2/3 時,需及時更換。更換方法為:先切斷電源,放凈系統內氫氣,逆時針擰松干燥筒并向上取出,擰下上端塑料密封蓋,倒出潮解硅膠,裝入新的干燥硅膠,放入棉花后擰緊密封蓋,再將干燥筒復原擰入密封座,注意不要擰得過緊,保證密封即可。
 
  4.設備運行狀態巡檢:每隔一定時間對設備進行巡檢,傾聽設備運行聲音是否正常,有無異常振動、噪聲;檢查設備外殼溫度是否過高,正常運行時設備外殼溫度應在允許范圍內,若發現異常,應立即停機檢查原因,排除故障后方可繼續運行。
 
  四、關機及關機后的維護
 
  1.正常關機操作:當半導體工藝不再需要氫氣供應時,先關閉發生器與用氣設備之間的閥門,然后按照設備操作規程關閉氫氣發生器電源開關,切斷電源。
 
  2.設備清理:關機后,若發生器表面有灰塵、污漬,可用干凈的軟布擦拭,但注意不要使用有機溶劑,防止損壞設備外殼。對于長期使用后,加液口處可能出現的白色粉末(KOH 或 NaOH 結晶),可用濕布輕輕擦拭去除。
 
  3.電解液維護(長期停機時):如果設備計劃長時間停機,應將電解池內的電解液全部倒出,并用蒸餾水沖洗干凈,防止電解液干涸、結晶,腐蝕設備內部部件。下次使用前,再重新配制并加注電解液。
 
  4.定期維護保養:即使設備處于停機備用狀態,也應定期(如每月一次)對其進行通電檢查,讓設備短暫運行一段時間,以保持各部件的良好性能,及時發現潛在故障隱患。同時,定期檢查設備的管路、閥門、密封件等,如有老化、損壞跡象,及時進行更換,確保設備隨時能夠正常投入使用。
 
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