半導體專用氫氣發生器專為半導體行業設計，能夠滿足高純度、高流量、高穩定性的氫氣需求，是半導體生產、科研及實驗中的理想選擇。

半導體專用氫氣發生器儀器特點

1、全自動化控制：

1）儀器全部工作過程由先進的程序控制，實現自動恒壓、恒流。

2）支持多組并聯使用，通過串聯控制線輕松擴展。

2、高效制氫技術：

1）采用固態電解質（PEM）法，以超純凈水為原料，固體聚合物為電解質。

2）貴金屬電極與有效的除濕裝置確保氫氣純度穩定，降低原始濕度。

3、便捷操作：

1）只需打開電源開關即可產氫，無需復雜設置。

2）使用后直接關閉電源，無需泄壓，操作簡便。

3）可連續或間斷使用，產氫量穩定，無衰減。

4、安全可靠：

1）配備全面的安全裝置，包括壓力控制、缺水自動監控和漏氣自動檢測。

2）電解超純水制氫，無腐蝕、無污染，保障實驗環境安全。

半導體專用氫氣發生器技術參數

1）氫氣純度：99.999% - 99.9999%

2）氫氣流量：1m?/h

3）輸出壓力：0 - 80psi（約0.5MPa）

4）壓力穩定性：< 0.001MPa

5）供電電源：220V±10%，50HZ

6）消耗功率：8kW

7）純水需求：＞2MΩ，1L/h

8）氫氣容積：＜20L

9）環境溫度：1 - 40℃

10）相對濕度：< 85%

11）海拔高度：＜2000米

12）外形尺寸：80cm（寬）x 90cm（深）x 100cm（高）

13）凈重：約200kg

半導體專用氫氣發生器可與普拉勒超純水機聯用

由超純水機制取二級水，并儲存至水箱備用。氫氣發生器缺水時，自動供給至氫氣發生器。多臺氫氣發生器可串聯使用，通過串聯控制線由一臺發生器控制其他 發生器，實現產氣均勻分配。（以兩臺設備為例控制圖如下）